中國3大半導體廠聯名投書　呼籲政府整合資源打造「中國版艾司摩爾」

中國三家知名半導體公司董座4日晚間聯名發表公開文章，呼籲集全國之力，在接下來5年開發可運作的微影（lithography）系統，推動更大程度技術自主，打造「中國版艾司摩爾」。

艾司摩爾（ASML）是荷蘭半導體製造商，主要從事半導體曝光裝置的研發、製造與銷售，是全球半導體重要供應商之一。

路透社報導，北方華創董事長趙晉榮、長江存儲董事長兼總裁陳南翔以及華大九天董事長劉偉平，與其他頂尖半導體研究機構共同撰寫一篇文章，敦促政府匯集國家資源，整合各機構的技術突破。

自2020年以來，半導體製造已成為美中科技競爭的關鍵戰場，華府積極實施限制措施，阻止中國擴大7奈米以下的先進半導體生產能力。

這篇文章4日晚間於中國科學技術協會所屬期刊《科技導報》（Science and Technology Review）網站發表，文章指出：「以曝光機為例，艾司摩爾的極紫外線 (EUV) 設備有5000家供應商提供的10萬個零組件，而艾司摩爾只是作為整合商。」

艾司摩爾是全球唯一EUV曝光機供應商，對於生產用於智慧手機、人工智慧（AI）和先進運算的最先進半導體晶片至關重要。

這篇文章寫道：「如何建立中國的艾司摩爾，讓『被整合者』跳出『名利』的屏障，並統一配置資金和人力資源，是相關部門應立即制定實施方案的急迫議題。」

中國半導體大廠表示，中國在不同機構的EUV雷射光源、晶圓工作台和光學系統方面取得突破性進展，但將這些組件整合成一個完整的系統，仍是「十五五」、即第15個五年計畫期間必須解決的挑戰。

文章還指出，電子設計自動化（EDA）軟體、矽晶圓和電子氣體等材料的瓶頸，是需要國家級協調的關鍵領域。

中國在5日發布的最新政府工作報告中，將半導體與航空、生物技術和低空經濟並列為新興產業的核心支柱。

中國總理李強在報告中強調了國內驅動的晶片研發努力所取得的突破。

不過中國官方的五年路線圖中未具體提到曝光機，而是呼籲「提高先進製程製造能力，加速關鍵設備、材料和零組件的開發」。

根據《科技導報》發表過的一篇文章，中國在28奈米及以上的成熟節點晶片產能，佔全球產能的33%，且在製造和設計方面仍不受限制。

在同一篇文章中，這些高級主管也呼籲建立具有最先進製程能力的公共平台，以研發和驗證最新的元件結構、製程設備、零組件、材料和EDA軟體。