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    【2奈米戰場2-2】台積電製程良率大幅領先! 三星、英特爾在後苦苦追趕

    2025-03-30 07:50 / 作者 戴嘉芬
    半導體先進製程在今年進入2奈米競爭時代,晶圓三雄陸續邁入量產。此為半導體晶片示意照。路透社
    半導體先進製程今年正式進入2奈米競爭時代,台積電、三星、英特爾陸續邁入量產!以技術層面來說,三星在3奈米進入環繞閘極電晶體(GAAFET)架構,算是GAA的先行者,英特爾則是最早使用GAA+晶背供電技術的業者。台積電2奈米雖首度採用GAA架構,但良率卻是三星的2倍以上。這場2奈米大戰究竟誰會勝出,似乎已見分曉!

    台積電2奈米採用Nanosheet技術

    台積電2奈米(N2)採用第一代Nanosheet奈米片技術的環繞閘極電晶體(GAAFET)架構;相較N3E,在相同功耗下,速度增加10~15%;而在相同速度下,功耗降低25~30%,晶片密度則相對增加15%以上

    2奈米搭配NanoFlex技術,透過靈活的元件寬度調節,進行效能、功耗和面積的最大化(PPA)。短單元可節省面積並提高能源效率,高單元則可提升效能,提高客戶在設計組合上的靈活性,可提升15%的速度,同時在面積與能源效率間取得最佳平衡。2奈米將如期在2025年下半年進入量產。

    台積電2奈米搭配NanoFlex技術,透過靈活的元件寬度調節,進行效能、功耗和面積的最大化。取自TSMC

    台積電2奈米家族延伸出N2P製程技術,具備更佳的效能及功耗優勢,為智慧型手機和HPC應用提供支持,N2P計畫於2026年下半年量產。目前主要客戶皆已完成2奈米矽智財設計,進到驗證階段。

    台積電預期,2奈米技術在前2年的產品設計定案數量將高於3奈米的同期表現,進一步擴大技術領先優勢。

    台積電將如期在今年下半年量產2奈米。圖為近年製程藍圖。取自TSMC


    三星導入GAA已四年 仍面臨良率難題

    三星在3奈米搶先導入環繞閘極電晶體(GAA)架構,現已邁入量產第四年,將GAA持續導入2奈米製程。最新SF2Z製程採用優化的晶背供電網路(BSPDN)技術,將電軌建置於晶圓背面,有效解決電源與訊號線的資源排擠問題。

    與第一代2奈米SF2相比,SF2Z導入BSPDN後能改善整體功耗、效能和面積,亦可顯示減少電壓下降,進一步強化高效能運算的設計效能。SF2將在今年量產,SF2P、SF2X預計2026年量產,SF2Z則規劃於2027年量產。

    三星近年先進製程藍圖規劃。取自Samsung

    IDC 資深研究經理曾冠瑋指出,三星從3奈米進入GAA架構,某些機台採共用或改造成2奈米製程,算是GAA架構的先行者,仍遇到良率問題。但依過去經驗來看,三星還是有機會比台積電提早半季或一季進行量產。

    三星2奈米家族SF2、SF2P、SF2X、SF2Z的量產時程。取自Samsung

    日前韓媒報導,三星正在為下一代智慧型手機Galaxy S26做準備,該款手機將搭載自家Exynos 2600處理器,採用SF2製程(第一代2奈米),Exynos 2600並已開始試產,良率約30%

    英特爾放棄20A!研發主力投入18A

    英特爾於去年宣布取消20A計畫,將研發重心放在18A,預計今年量產。18A製程是英特爾第二個使用全方位閘極(Gate-All-Around)RibbonFET帶式場效電晶體和背部供電技術(PowerVia)製程技術,也屬於GAA架構。與2奈米相比,18A製程將 RibbonFET設計最佳化,提高了10%的性能功耗比。

    曾冠瑋說,「從技術層面來看,英特爾是最早進入GAA+晶背供電技術的業者,憑藉此優勢,在技術上還是有很大發展空間」。

    根據 IDC 追蹤,英特爾18A製造自家產品「Panther Lake」,在良率上沒有太大問題,約與三星處在相同層級,但與台積電仍存在相當大的差距。若生產IC設計客戶的產品,良率就更為不穩定。「因此,IC設計公司仍在評估要不要在Intel 18A投片,像是博通評估後發現,英特爾在功耗上沒有達到要求,因此轉向台積電下單。」

    曾冠瑋認為,英特爾面臨的問題是它原本是IDM體系,要進行晶圓代工的PDK還需要努力,因為IC業者要投片,就是要看PDK系統夠不夠完善,才能進行模擬。

    知名分析師郭明錤認為,在3個月前,台積電2奈米試產量率已達60~70%,目前更遠高於這個水準。而英特爾18A奈米製程技術良率僅2至3成,還有很大的改善空間。他預測蘋果在明年下半年推出的iPhone 18高階手機,將使用台積電2奈米製程。

    工研院產科國際所產業分析師黃慧修指出,當半導體先進製程推進到2奈米或更小尺寸,必須採用ASML高數值孔徑EUV(High-NA EUV)曝光機,它成為台積電、英特爾、三星等晶圓廠進入2奈米的必備設備。

    英特爾率先導入高數值孔徑EUV曝光機,每台造價約3.5億歐元,大小等同一台雙層巴士。取自Intel

    新設備的優勢是數值孔徑從0.33增大到0.55,每小時可印刷超過185個晶圓,大幅提升產能。單次曝光解析度可低至8奈米,可減少在先進製程節點使用多重曝光製程,讓製造流程更簡化,而英特爾是最早取得此設備的業者,預計導入14A製程。

    全球主要晶圓廠製程藍圖規劃。集邦提供

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